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在氧(yǎng)化染色整個流程中,因為(wéi)氧化工藝原因造成染色不良是比(bǐ)較普遍的。氧化膜的膜厚和孔隙均勻一致是染色時獲得均(jun1)勻一致顏色的前(qián)提和基(jī)礎,為獲得均勻一致的氧化膜,保證足夠的循環量,冷卻量(liàng),保證良(liáng)好的導電性是舉足輕重的,此外就是氧化工藝的穩定性。氧化溫度,控製在20℃左右,氧(yǎng)化槽液的溫度(dù)對染色的影響非常(cháng)顯著,過低的溫度致使氧化膜(mó)的膜孔致密,染色速度顯著(zhe)減緩;溫度過高,氧化膜蔬鬆,容易粉化,不利於(yú)染色的控製,氧化(huà)槽的溫差變化應在2℃以(yǐ)內(nèi)為宜。硫酸濃度,控製在180—200g/l。稍高的硫酸濃度可促進氧化膜的溶解反應加快,利於孔隙的(de)擴張(zhāng),更(gèng)易於染色;鋁離子(zǐ)濃度,控製在5—15 g/l。鋁離子(zǐ)小於5g/l,生成的氧化膜吸附能力降低,影響上色速度,鋁離子大於15g/l時,氧(yǎng)化膜的均勻(yún)性受到影響(xiǎng),容易出(chū)現不規則的膜層。
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